o 2005.12 - 엑사테크 설립
- RAITH(독일) 社 / E-beam Lithography system 대리점 계약 체결
- SAWATEC 社 / Mass Production용 및 R&D Spin, Spray Coater,Developer, Hot & Cool Plate
대리점 계약 체결
- AllResist社/ MEMS, Nano, Nano Imprint용 Photo Resist 대리점계약 체결
o 2006.02
- SiGen 社 / Mass Production용Plasma Activation, 3D Stacking용 Cleave Tool 대리점 계약 체결
- YES 社 / Plasma Asher, Plasma Cleaner, Vacuum Oven 대리점 계약 체결
o 2006.05
- Alcatel 社 / Sub Dealer계약 체결–Si Deep Etching System
o 2007.08
- 한양대 안산 캠퍼스내 ㈜스타일러스멤스 설립
- Alcatel 社 / Si Deep Etching 공정 및 Probe card 용 도금공정 서비스개시
- 2008.09 벤처회사로 변환 예정
o 2008.04
- 한국기계연구원과 Photo Aligner의 공동 개발 및 기술 국산화를 위해 업무 제휴 및 국내 판매
협정 예정
o 2008.08
- 한국생산기술연구원 및 한양대 산하 MBC 센터와 E-beam Litho-graphy 및 Nanoimprint 와 Photo
공정용으로 Metal Resist(Thin film)을 공동 투자 및 Fund 신청하여 개발 계획
o 2008.09
- '㈜스타일러스멤스' 는 '㈜엘란테크놀러지' 로 상호 변경 및 한국생산기술원 벤처혁신관 으로 이전
o 2009.02
- 한국생산기술원과 Spin Coater의 공동 개발 및 기술 국산화를 위해 업무 제휴 및 국내판매
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